SIGAA - Sistema Integrado de Gestão de Atividades Acadêmicas

Tópicos Aulas

Apresentacao da disciplina (05/04/2021 - 05/04/2021)

Apresentacao da disciplina, ementa e forma de avaliacao

Introdução (06/04/2021 - 07/04/2021)

- Filmes finos e aplicações

- Principais processos de preparação, etapas de crescimento, processos de caracterização e aplicações

Processo de deposição por evaporação (08/04/2021 - 13/04/2021)

- Termodinâmica da evaporação

- Taxa de evaporação

- Fontes de evaporação

- Evaporação de ligas

- Equipamentos de evaporação

- Aplicações tecnológicas

Avaliacao I (14/04/2021 - 14/04/2021)

Mecanismos de formação de filmes (15/04/2021 - 19/04/2021)

- Adsorção

- Difusão superficial

- Nucleação

- Estruturação

- Interfaces e stress

Deposição química em fase vapor-CVD (20/04/2021 - 26/04/2021)

- Tipos de reatores

- Termodinâmica do processo CVD

- Transporte de gás

- Cinética de crescimento do filme

Avaliacao II (27/04/2021 - 27/04/2021)

Aplicações de filmes finos (28/04/2021 - 28/04/2021)

- Aplicações tribológicas

- Microeletrônica

- Filmes foto e eletro-sensíveis

Avaliacao III (29/04/2021 - 29/04/2021)

Frequências da Turma

#	Matrícula	ABR															Total
#	Matrícula	05	06	07	08	12	13	14	15	19	20	22	26	27	28	29	Total
1	2021100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
2	2021100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
3	2021100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
4	2021100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
5	2020100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
6	2020100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
7	2021100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
8	2021100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0

Notas da Turma

#	Matrícula	Unid. 1	Unid. 2	Unid. 3	Unid. 4	Resultado	Situação
1	2021100****	10,0	10,0	10,0	10,0	10.0	AM
2	2021100****	10,0	10,0	10,0	10,0	10.0	AM
3	2021100****	10,0	9,0	9,0	9,0	9.3	AM
4	2021100****	10,0	9,0	9,0	9,0	9.3	AM
5	2020100****	8,0	8,0	8,0	8,0	8.0	AM
6	2021100****	10,0	10,0	9,5	9,5	9.8	AM
7	2021100****	10,0	9,0	9,0	9,0	9.3	AM
8	2020100****	10,0	9,5	9,5	9,0	9.5	AM

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Plano de Curso

Nesta página é possível visualizar o plano de curso definido pelo docente para esta turma.

Dados da Disciplina
Ementa:	Teoria cinética de gases; Tecnologia de vácuo; Mecanismos de formação de filmes; Processos de deposição de filmes; Caracterização e suas aplicações tecnológicas.
Objetivos:

Metodologia de Ensino e Avaliação
Metodologia:	Aulas teórico-expositivas por meio de recursos de vídeoconferencia, apresentação de seminários e discussão de artigos relacionados ao tema
Procedimentos de Avaliação da Aprendizagem:	apresentação de seminários
Horário de atendimento:	14h-15h
Bibliografia:	1 - OHRING, Milton. Materials science of thin films: deposition and structure. 2nd ed. New York: Academic Press, 2002. 2 - MARTIN, Peter M. Handbook of deposition technologies for films and coatings: science, applications and technology. 3rd ed. New York: Elsevier, 2010. 3 - CHOPRA, Kasturi L. Thin film phenomena. 1 ed. New York: McGraw-Hill, 1969. Artigos científicos de revistas com seletiva política editorial publicados na area.

Cronograma de Aulas
Início	Fim	Descrição
05/04/2021	05/04/2021	Apresentacao da disciplina
06/04/2021	07/04/2021	Introdução
08/04/2021	13/04/2021	Processo de deposição por evaporação
14/04/2021	14/04/2021	Avaliacao I
15/04/2021	19/04/2021	Mecanismos de formação de filmes
20/04/2021	26/04/2021	Deposição química em fase vapor-CVD
27/04/2021	27/04/2021	Avaliacao II
28/04/2021	28/04/2021	Aplicações de filmes finos
29/04/2021	29/04/2021	Avaliacao III

: Referência consta na biblioteca

Referências Básicas
Tipo de material	Descrição

Referências Complementares
Tipo de material	Descrição

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